{"id":13508,"date":"2026-07-28T10:00:58","date_gmt":"2026-07-28T13:00:58","guid":{"rendered":"http:\/\/laf5.publisher.highstack.com.ar\/?p=13508"},"modified":"2026-07-28T10:00:58","modified_gmt":"2026-07-28T13:00:58","slug":"china-empieza-a-fabricar-sus-propias-maquinas-de-litografia-avanzada-el-movimiento-que-ha-puesto-en-alerta-a-asml","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/laf5.publisher.highstack.com.ar\/?p=13508","title":{"rendered":"China empieza a fabricar sus propias m\u00e1quinas de litograf\u00eda avanzada: el movimiento que ha puesto en alerta a ASML"},"content":{"rendered":"
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China habr\u00eda superado una barrera que parec\u00eda lejana<\/h2>\n

China lleva a\u00f1os intentando construir una cadena de producci\u00f3n de semiconductores que no dependa de proveedores extranjeros. Ha logrado avances en dise\u00f1o, fabricaci\u00f3n, materiales y equipos, pero una pieza se resist\u00eda especialmente: las m\u00e1quinas de litograf\u00eda capaces de imprimir circuitos diminutos sobre las obleas de silicio.<\/p>\n

Seg\u00fan una informaci\u00f3n publicada originalmente por The Information y recogida por Reuters, una empresa estatal china ya habr\u00eda comenzado a producir m\u00e1quinas de litograf\u00eda de ultravioleta profundo de inmersi\u00f3n, conocidas como DUV. El plan contempla fabricar cinco unidades durante 2026 y elevar esa cifra hasta aproximadamente veinte en 2027.<\/p>\n

Los primeros equipos estar\u00edan destinados a SMIC, el mayor fabricante chino de chips, adem\u00e1s de Hua Hong Semiconductor y el productor de memorias CXMT. ASML, la compa\u00f1\u00eda neerlandesa que domina esta tecnolog\u00eda, no confirm\u00f3 el avance ni hizo comentarios sobre el informe.<\/p>\n

\"China
\u00a9 Geek Review \u2013 Youtube.<\/figcaption><\/figure>\n

Los indicios apuntan a una empresa vinculada con Huawei<\/h2>\n

El reporte no identific\u00f3 p\u00fablicamente al fabricante, aunque varias fuentes del sector apuntan a Shanghai Yuliangsheng Technology. Esta startup estar\u00eda relacionada con SiCarrier, una compa\u00f1\u00eda integrada en el ecosistema tecnol\u00f3gico construido alrededor de Huawei.<\/p>\n

SMIC probar\u00eda desde septiembre de 2025 una herramienta desarrollada por Yuliangsheng y dise\u00f1ada inicialmente para procesos de 28 nan\u00f3metros. La m\u00e1quina utiliza principalmente componentes fabricados en China, aunque algunas piezas cr\u00edticas todav\u00eda proceder\u00edan de proveedores japoneses.<\/p>\n

La litograf\u00eda de inmersi\u00f3n coloca una fina capa de agua entre la lente y la oblea. Este sistema aumenta la resoluci\u00f3n de la luz utilizada para proyectar los patrones y permite fabricar estructuras m\u00e1s peque\u00f1as que con un equipo DUV convencional.<\/p>\n

Una m\u00e1quina de 28 nan\u00f3metros tambi\u00e9n puede fabricar chips m\u00e1s avanzados<\/h2>\n

Que el equipo est\u00e9 orientado a 28 nan\u00f3metros no significa que \u00fanicamente pueda producir chips de ese tama\u00f1o. Mediante una t\u00e9cnica denominada multipatterning, el fabricante puede exponer varias veces una misma capa y dividir un patr\u00f3n complejo en diferentes pasos.<\/p>\n

SMIC ya ha utilizado m\u00e1quinas DUV extranjeras para producir chips de 7 nan\u00f3metros. Sin embargo, este procedimiento consume m\u00e1s tiempo, requiere m\u00e1s m\u00e1scaras y aumenta las posibilidades de que aparezcan defectos. Una herramienta china podr\u00eda reducir la dependencia de ASML, pero no igualar\u00eda autom\u00e1ticamente la productividad, precisi\u00f3n y rendimiento de sus modelos modernos.<\/p>\n

La verdadera prueba llegar\u00e1 durante la cualificaci\u00f3n industrial. Una m\u00e1quina puede imprimir patrones en un laboratorio y aun as\u00ed necesitar meses de ajustes antes de trabajar de forma estable las 24 horas dentro de una f\u00e1brica.<\/p>\n

\"China
\u00a9 Geek Review \u2013 Youtube.<\/figcaption><\/figure>\n

La reacci\u00f3n del mercado fue inmediata<\/h2>\n

Las acciones de ASML cayeron m\u00e1s de un 7% despu\u00e9s de conocerse el reporte, mientras otros fabricantes de equipos para semiconductores tambi\u00e9n registraron p\u00e9rdidas. Los inversores interpretaron el anuncio como una posible amenaza para el negocio que estas compa\u00f1\u00edas mantienen en China.<\/p>\n

Sin embargo, la diferencia de escala contin\u00faa siendo enorme. ASML calcula disponer durante 2026 de capacidad para producir alrededor de 130 sistemas DUV de inmersi\u00f3n y pretende ampliarla un 30% en 2027. China aspira a fabricar veinte unidades durante ese mismo a\u00f1o.<\/p>\n

Adem\u00e1s, ASML conserva la exclusividad de las m\u00e1quinas de ultravioleta extremo, o EUV, necesarias para fabricar de manera eficiente los chips m\u00e1s avanzados. China trabaja en su propio prototipo, pero todav\u00eda no ha demostrado una producci\u00f3n comercial con esta tecnolog\u00eda.<\/p>\n

El avance, por tanto, no significa que Pek\u00edn haya alcanzado a ASML. S\u00ed indica algo importante: las restricciones occidentales est\u00e1n acelerando la construcci\u00f3n de alternativas nacionales. Incluso una m\u00e1quina menos precisa puede resultar estrat\u00e9gica si permite mantener operativas las f\u00e1bricas chinas cuando el acceso a equipos extranjeros est\u00e1 cada vez m\u00e1s limitado.<\/p>\n

Fuente: Xataka.<\/p>\n<\/p><\/div>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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